Выпуск чипов по 1,4-нм техпроцессу не за горами: у ASML есть для этого нужное оборудование

Голландский производитель полупроводникового оборудования ASML разработал новую систему литографии High NA EUV. Данное оборудование позволит создавать чипы по технологии Intel 14A, передает Reuters.

Литографическое оборудование использует сфокусированные лучи света для создания крошечных схем компьютерных чипов. Аппараты ASML High NA EUV размером с двухэтажный автобус и стоимостью более 350 млн долларов будут производить новые поколения процессоров — гораздо меньших по размеру и более быстрых. Спецификация компании Intel — 14A, — означает, что чипы будут произведены по 1,4-нм техпроцессу, что приближает разработчика к показателю в 1-нм.

Один литографический сканер модели High NA находится в лаборатории ASML в Вельдховене (Нидерланды), а второй — пока на стадии сборки на заводе Intel (Орегон, США).

Вероятно, крупные производители микросхем, включая TSMC и Samsung, смогут купить новое оборудование ASML в ближайшие 5 лет. А вот Intel намерена использовать его в производстве своих чипов поколения 14A уже через 2 года. А в ближайшее время Intel сможет выпустить процессоры с маркировкой 18A — по 1,8 нм техпроцессу.

Машина из Вельдховена уже была протестирована. С ее помощью обработали кремниевую пластину специальными светочувствительными химикатами, чтобы подготовить к нанесению схематического узора, однако непосредственно чипы еще не изготовили, так как аппарат нужно должным образом откалибровать.

Ранее мы сообщали, что компания Intel раскрыла, когда сделает передовой 1-нм чип. Intel также собирается максимально автоматизировать производство полупроводников и сделать Intel Foundry вторым по величине полупроводниковым заводом в мире.