Випуск чипів за 1,4-нм техпроцесом не за горами: у ASML є для цього потрібне обладнання

Голландський виробник напівпровідникового обладнання ASML розробив нову систему літографії High NA EUV. Це обладнання дасть змогу створювати чипи за технологією Intel 14A, передає Reuters.

Літографічне обладнання використовує сфокусовані промені світла для створення крихітних схем комп'ютерних чипів. Апарати ASML High NA EUV розміром з двоповерховий автобус і вартістю понад 350 млн доларів вироблятимуть нові покоління процесорів — набагато менших за розміром і швидших. Специфікація компанії Intel — 14A, — означає, що чипи будуть вироблені за 1,4-нм техпроцесом, що наближає розробника до показника в 1-нм.

Один літографічний сканер моделі High NA перебуває в лабораторії ASML у Вельдховені (Нідерланди), а другий — поки на стадії складання на заводі Intel (Орегон, США).

Ймовірно, великі виробники мікросхем, включно з TSMC і Samsung, зможуть купити нове обладнання ASML у найближчі 5 років. А ось Intel має намір використовувати його у виробництві своїх чипів покоління 14A вже через 2 роки. А найближчим часом Intel зможе випустити процесори з маркуванням 18A — за 1,8 нм техпроцесом.

Машина з Вельдховена вже була протестована. З її допомогою обробили кремнієву пластину спеціальними світлочутливими хімікатами, щоб підготувати до нанесення схематичного візерунка, проте безпосередньо чипи ще не виготовили, оскільки апарат потрібно належним чином відкалібрувати.

Раніше ми повідомляли, що компанія Intel розкрила, коли зробить передовий 1-нм чип. Intel також збирається максимально автоматизувати виробництво напівпровідників і зробити Intel Foundry другим за величиною напівпровідниковим заводом у світі.