Китай обрадовался, а в ASML напряглись: Canon выпустила особую систему литографии для чипов

Компания Canon на своем официальном сайте сегодня объявила о создании новейшей системы "наноимпринтной литографии" FPA-1200NZ2C. Эта система позволит компании производить чипы по 5-нм техническому процессу, а в ближайшем будущем уменьшить их значение до 2-нм.

Компания утверждает, что такой техпроцесс еще больше увеличит производительность и функциональность новых процессоров. Для примера: самый современный чип A17 Pro внутри iPhone 15 Pro и Pro Max от Apple представляет собой 3-нм полупроводник.

Важно

В Китае "слили" снимок скандального процессора Huawei на 7-нм: вот что нашли внутри

Как отмечают эксперты CNBC, главный конкурент и фактически монополист на рынке литографического оборудования, без которого немыслима разработка новых процессоров, нидерландская компания ASML, использует в своих установках ультрафиолетовый свет. В Canon заявили, что ее машине не требуется источник света со специальной длиной волны, что снижает энергопотребление и значительно упрощает весь процесс.

Секрет успеха в наноимпринтной литографии

Canon разрабатывает свою технологию наноимпринтной литографии (NIL) еще с 2004 года, но только сейчас в компании смогли добиться значительно результата. Технология японской фирмы полностью исключает фотолитографию и вместо этого наносит желаемый рисунок схемы на кремниевую пластину. Наноимпринтная литография (НИЛ) — это метод формирования наноструктур на поверхности с использованием механического воздействия. В отличие от традиционных методов литографии, таких как фотолитография или электронно-лучевая литография, НИЛ не требует использования фоторезиста или других химических веществ.

При НИЛ используется штамп, который имеет рельефную структуру, соответствующую желаемой наноструктуре. Штамп нагревается до температуры выше температуры плавления резиста. Затем штамп прижимается к поверхности резиста, и резист плавится и принимает форму штампа. После охлаждения резист затвердевает, образуя наноструктуру.

НИЛ имеет ряд преимуществ по сравнению с традиционными методами литографии:

• низкая стоимость: НИЛ не требует использования дорогостоящего оборудования или материалов;
• простота процесса: НИЛ является относительно простым процессом, который может быть легко масштабирован;
• высокая разрешающая способность: НИЛ позволяет формировать наноструктуры с разрешением до нескольких нанометров.

При чем тут Китай?

Как известно, Китай подвергнут самым жестким технологическим санкциям от США и их союзников. В Китай запрещено поставлять любое литографическое оборудование, которое позволит КНР разрабатывать современные процессоры для военных разработок. Правительство Нидерландов запретило компании ASML экспортировать свои машины для литографии EUV в Китай, и она не отправила в страну ни одного устройства. Причина в том, что эти машины являются ключом к созданию самых передовых чипов.

Однако, тут эксперты разглядели уловку. Дело в том, что в списке запрещенного оборудования речь идет об ультрафиолетовой литографии. Однако в системе Canon используется технология без ультрафиолетовых лучей, а значит разработка японцев окажется под пристальным вниманием со стороны КНР. Пока что Canon не ответила журналистам CNBC на вопрос: может ли компания отправить свою литографическую систему в Китай.

Ранее Фокус сообщал, что Microsoft представит свой чип для ИИ. Компания хочет сэкономить десятки миллиардов долларов, которые приходиться платить за процессоры для искусственного интеллекта.