Разделы
Материалы

Китай обрадовался, а в ASML напряглись: Canon выпустила особую систему литографии для чипов

Филипп Бойко
Фото: Canon | Система Canon FPA-1200NZ2C использует наноимпринтную литографию

Уже в ближайшем будущем японская корпорация собирается улучшить техпроцесс до 2-нм, к тому же ее установка гораздо проще, чем громоздкие системы от ASML.

Компания Canon на своем официальном сайте сегодня объявила о создании новейшей системы "наноимпринтной литографии" FPA-1200NZ2C. Эта система позволит компании производить чипы по 5-нм техническому процессу, а в ближайшем будущем уменьшить их значение до 2-нм.

Компания утверждает, что такой техпроцесс еще больше увеличит производительность и функциональность новых процессоров. Для примера: самый современный чип A17 Pro внутри iPhone 15 Pro и Pro Max от Apple представляет собой 3-нм полупроводник.

Как отмечают эксперты CNBC, главный конкурент и фактически монополист на рынке литографического оборудования, без которого немыслима разработка новых процессоров, нидерландская компания ASML, использует в своих установках ультрафиолетовый свет. В Canon заявили, что ее машине не требуется источник света со специальной длиной волны, что снижает энергопотребление и значительно упрощает весь процесс.

Оборудование ASML использует ультрафиолет для разработки процессоров
Фото: ASML

Секрет успеха в наноимпринтной литографии

Canon разрабатывает свою технологию наноимпринтной литографии (NIL) еще с 2004 года, но только сейчас в компании смогли добиться значительно результата. Технология японской фирмы полностью исключает фотолитографию и вместо этого наносит желаемый рисунок схемы на кремниевую пластину. Наноимпринтная литография (НИЛ) — это метод формирования наноструктур на поверхности с использованием механического воздействия. В отличие от традиционных методов литографии, таких как фотолитография или электронно-лучевая литография, НИЛ не требует использования фоторезиста или других химических веществ.

Canon использует технологию наноимпринтной литографии
Фото: Canon

При НИЛ используется штамп, который имеет рельефную структуру, соответствующую желаемой наноструктуре. Штамп нагревается до температуры выше температуры плавления резиста. Затем штамп прижимается к поверхности резиста, и резист плавится и принимает форму штампа. После охлаждения резист затвердевает, образуя наноструктуру.

НИЛ имеет ряд преимуществ по сравнению с традиционными методами литографии:

  • низкая стоимость: НИЛ не требует использования дорогостоящего оборудования или материалов;
  • простота процесса: НИЛ является относительно простым процессом, который может быть легко масштабирован;
  • высокая разрешающая способность: НИЛ позволяет формировать наноструктуры с разрешением до нескольких нанометров.

При чем тут Китай?

Как известно, Китай подвергнут самым жестким технологическим санкциям от США и их союзников. В Китай запрещено поставлять любое литографическое оборудование, которое позволит КНР разрабатывать современные процессоры для военных разработок. Правительство Нидерландов запретило компании ASML экспортировать свои машины для литографии EUV в Китай, и она не отправила в страну ни одного устройства. Причина в том, что эти машины являются ключом к созданию самых передовых чипов.

Однако, тут эксперты разглядели уловку. Дело в том, что в списке запрещенного оборудования речь идет об ультрафиолетовой литографии. Однако в системе Canon используется технология без ультрафиолетовых лучей, а значит разработка японцев окажется под пристальным вниманием со стороны КНР. Пока что Canon не ответила журналистам CNBC на вопрос: может ли компания отправить свою литографическую систему в Китай.

Ранее Фокус сообщал, что Microsoft представит свой чип для ИИ. Компания хочет сэкономить десятки миллиардов долларов, которые приходиться платить за процессоры для искусственного интеллекта.